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攝像頭模組清洗設備

攝像頭模組清洗設備

  • 所屬分類:半導體清洗材(cai)料
  • 瀏覽次數:0
  • 發布日期:2021-10-26 15:09:46

產品概(gai)述

攝像頭模組清洗機

應用領域:

清洗機

清洗工(gong)藝

放入物料   —— 一鍵清洗(xi)開始,安(an) 全門(men)自(zi)動關閉 —— 二流體清洗(xi)—— 離心脫(tuo)水(去靜電離子風與(yu)加熱(re)腔體輔助干燥) --- 清洗(xi)完畢,報警提示 --- 玻璃門(men)自(zi)動打(da)開。

設備特點:

  • 可(ke)更換清洗盤清洗多種產品,清洗盤按(an)產品定做;

  • 設備操作方便快(kuai)捷,更具人(ren)性化;

  • 設備(bei)采用二流體(ti)清(qing)洗,清(qing)洗精度(du)高,對產品零損傷(shang),純(chun)水消耗量極(ji)小(xiao)

  • 旋轉式(shi)噴(pen)桿(gan),避免二次(ci)污染產品;

  • 高(gao)速(su)離心設(she)計,轉速(su)可調節100-1500R/Min;

  • 配備(bei)靜電消 除(chu)裝(zhuang)置(zhi)、腔壁加熱裝(zhuang)置(zhi),輔助清洗達(da)到較好效果;

  • 配備2級(ji)空氣過濾系統,壓縮空氣符合(he)ISO8573.1標準;

  • 縮減(jian)寬度的省空間設計,減(jian)少無塵車間的占用面積;

  • 整機(ji)不銹(xiu)鋼(gang)機(ji)身,能(neng)耐酸堿,對工(gong)作環境無污染,鏡(jing)面機(ji)殼使設備保養(yang)時 易(yi)于清理;

  • 完全使用超純水清洗,符合(he)RoHS標準。

 

技術參(can)數(shu): 

設備外觀尺寸

 1050mm(L)×900mm(W)×1900mm(H)

 清洗盤(pan)規格

 定(ding)制(清洗(xi)盤直徑<?550mm)

 清洗(xi)方(fang)式(shi)

 二流體清(qing)洗

 干(gan)燥方(fang)式

 高速離心甩干

 電源(yuan)供應

 AC380V 50HZ

 總(zong)功率

 7KW 

 耗電量

 清洗時: 3.5kw/h

 待(dai)機時: 1kw/h

 傳動(dong)馬力 

 3HP 

 環境(jing)過(guo)濾方式 

 0.3μm;99.999% 

 空(kong)氣過濾方式 

 1μm×1;0.01μm×1 

 離心轉速 

 100-1500RPM 

 純(chun)水消耗量 

 0-7L/Min 

 氣體消(xiao)耗量 

 10-30m3/H 

 清(qing)洗壓(ya)力 

 液(ye)體(ti)壓力(li):3-8Kgf/cm2     空氣壓力(li):0.2-0.5Mpa

 DI水供(gong)應 

 流(liu)量:>7LPM  電阻(zu)率:>17MΩ 

 氣源供應 

 壓(ya)力:0.45-0.7Mpa;流量:>30m3/H(潔(jie)凈(jing)度符合清(qing)洗要求) 

 純(chun)水入口徑 

 ?12mm軟管或PT1/2″內螺紋 

 氣源入口徑 

 ?12mm氣(qi)管 

 排水出口徑 

 PT 1″內(nei)螺紋

 排氣口口徑

 4″×2(需加強抽風(feng),風(feng)速(su)大于(yu)3m/sec)

 機器凈重

約450KG


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